Abstract:
L’objective de notre étude et la modélisation électrique d’un plasma
magnétron utilisé dans les procédés de dépôt de couche minces. La corrélation entre les
éléments de ce modèle électrique avec les paramètres macroscopiques du plasma généré
par le magnétron (tension d’autopolarisation Vdc et flux de particule ionique Is
bombardant l’échantillon), permet un meilleur contrôle et ajustement lors d’un processus
de dépôt. L’étude se fera en fonction de la pression de gaz argon et de la puissance
d’excitation. La confrontation entre les éléments du modèle établie et les paramètres
clefs de la pulvérisation magnétron, permet de mieux définir les éléments les plus
sensibles et les plus influents
