Caracterisation des interfaces Si/O2 , Si/Si3N4 et Si/SiOxNy par spectroscopie des photoelectrons (XPS)

Benkherourou Ouahab; Deville J.P.

المكان (URI): http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/11902

التاريخ: 2017-01-01

عرض سجل المادة الكامل

الملفات في هذه المادة

الملفات	الحجم	التنسيق	عرض

هذه المادة تظهر في الحاويات التالية

Non classé (Physique)

بحث دي سبيس

استعرض

جميع محتويات المستودع
هذه الحاوية

حسابي