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Caracterisation de films minces déposés par plasma RCER à partir de diphenylemethèesilane (DPMS) en vue de l'obtention d'un materiau à faible permitivité (low k) pour des applications microelectroniques

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dc.contributor.author Bouledjnib Leila
dc.contributor.author Sahèi S.
dc.date.accessioned 2022-05-24T09:55:59Z
dc.date.available 2022-05-24T09:55:59Z
dc.date.issued 2017-01-01
dc.identifier.uri http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/5891
dc.description 67 f.
dc.language.iso fre
dc.subject Electronique
dc.title Caracterisation de films minces déposés par plasma RCER à partir de diphenylemethèesilane (DPMS) en vue de l'obtention d'un materiau à faible permitivité (low k) pour des applications microelectroniques
dc.coverage 01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au magazin de la bibliothèque centrale 01 CD


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