Contribution à l'étude des dégradations induites par les rayons X de faible énergie sur la couche de transition interfaciale oxyde-silicium des structures M.O.S.

dc.contributor.author	Martin J.
dc.contributor.author	Boukabache Ali
dc.date.accessioned	2022-05-30T09:35:10Z
dc.date.available	2022-05-30T09:35:10Z
dc.date.issued	1983
dc.identifier.uri	http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/11522
dc.description	174 f.
dc.description	graph.
dc.language.iso	fre
dc.subject	Electronique
dc.title	Contribution à l'étude des dégradations induites par les rayons X de faible énergie sur la couche de transition interfaciale oxyde-silicium des structures M.O.S.
dc.coverage	1 Disponible dans la salle de recherche

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